X射线光电子能谱（XPS）是一种表面分析技术，可以用于分析材料表面的化学成分、化学键状态、电子结构等信息。在进行XPS分析时，通常需要先确定样品的本底信号，以便准确地分析样品的信号。本标准规定了使用XPS技术确定本底的程序。

1. 范围
本标准适用于使用XPS技术进行表面化学分析的实验室和企业。

2. 规定
2.1 确定本底的程序应包括以下步骤：
（1）选择合适的XPS仪器和参数；
（2）选择合适的本底区域；
（3）采集本底信号；
（4）对本底信号进行处理和分析。

2.2 XPS仪器和参数的选择应考虑以下因素：
（1）样品的性质和形态；
（2）所需分辨率和灵敏度；
（3）所需分析深度和表面积。

2.3 本底区域的选择应考虑以下因素：
（1）与样品相同的材料；
（2）与样品相同的表面状态；
（3）与样品相同的分析深度。

2.4 采集本底信号时应注意以下事项：
（1）采集足够长的时间以获得稳定的信号；
（2）避免样品表面受到污染或损伤；
（3）避免样品表面受到氧化或还原。

2.5 对本底信号进行处理和分析时应注意以下事项：
（1）去除背景信号；
（2）进行峰拟合；
（3）确定本底信号的峰位置和强度。

3. 报告
确定本底的程序应在实验报告中详细描述，并包括以下内容：
（1）XPS仪器和参数的选择；
（2）本底区域的选择；
（3）本底信号的采集、处理和分析过程；
（4）本底信号的峰位置和强度。

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