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半导体制造是一项高精度、高技术含量的工艺，其中气体处理是非常重要的一环。气体处理的质量直接影响到半导体器件的性能和可靠性。为了保证半导体器件的质量，制定了GB/T 34971-2017半导体制造用气体处理指南标准。

该标准主要包括以下内容：

1. 气体处理方法：包括气体纯化、气体混合、气体输送等方法。其中，气体纯化是气体处理的核心，主要包括物理吸附、化学吸附、膜分离等方法。

2. 气体处理要求：包括气体纯度、杂质含量、湿度、流量等要求。其中，气体纯度是气体处理的关键指标，要求气体纯度达到99.999%以上。

3. 气体处理检测方法：包括气体纯度检测、杂质含量检测、湿度检测、流量检测等方法。其中，气体纯度检测是气体处理的关键检测项目，要求检测精度达到0.001%以上。

4. 气体处理评价方法：包括气体处理效果评价、气体处理设备评价等方法。其中，气体处理效果评价是气体处理的关键评价项目，要求评价精度达到0.001%以上。

该标准的实施可以有效提高半导体制造过程中气体处理的质量和效率，保证半导体器件的性能和可靠性。

相关标准：
GB/T 34970-2017 半导体制造用气体纯度检测方法
GB/T 34972-2017 半导体制造用气体流量检测方法
GB/T 34973-2017 半导体制造用气体湿度检测方法
GB/T 34974-2017 半导体制造用气体杂质含量检测方法
GB/T 34975-2017 半导体制造用气体输送方法