二次离子质谱（SIMS）是一种表面化学分析技术，可用于分析材料表面的元素、化合物和分子。飞行时间二次离子质谱仪（ToF-SIMS）是一种常用的SIMS仪器，其分析结果的准确性和可靠性与质量标的准确性密切相关。因此，ToF-SIMS质量标校准是保证ToF-SIMS分析结果准确性和可靠性的重要环节。

本标准规定了ToF-SIMS质量标校准的要求和方法，包括质量标的选择、制备和校准过程中的注意事项等。具体要求如下：

1. 质量标的选择

质量标应具有良好的稳定性和可追溯性，且其质量应覆盖ToF-SIMS分析中常见的元素和化合物。质量标的制备应符合国家相关标准。

2. 质量标的制备

质量标的制备应遵循以下步骤：

（1）选择合适的基底材料，如不锈钢、硅片等。

（2）在基底材料上制备一层均匀的样品，如金属、化合物等。

（3）将样品表面覆盖一层均匀的碳膜，以保护样品表面并提高离子信号强度。

（4）将质量标切割成合适的大小，以适应ToF-SIMS分析的需求。

3. 质量标的校准

质量标的校准应遵循以下步骤：

（1）将质量标放置在ToF-SIMS分析器中，进行预处理，如去除表面污染物等。

（2）选择合适的离子源和离子束，进行质量标的离子轰击。

（3）记录质量标的离子质量谱图，并进行数据处理和分析。

（4）根据质量标的离子质量谱图，确定ToF-SIMS分析器的质量校准系数。

4. 校准结果的确认

校准结果应进行确认，包括质量标的离子质量谱图的稳定性和ToF-SIMS分析器的质量校准系数的准确性等。

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