表面化学分析是一种研究材料表面化学组成和结构的方法，深度剖析是表面化学分析中的一种重要手段。深度剖析可以通过测量材料表面的X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱等信息，来推断材料的化学组成和结构信息。而溅射速率是深度剖析中的一个重要参数，它可以用来计算材料表面的化学组成和结构信息。

本标准规定了用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法。其中，单层薄膜是指在基底上形成的一层薄膜，多层薄膜是指在基底上形成的多层薄膜。本标准中所述的薄膜材料包括金属、氧化物、硅、氮化物、碳化物等。

本标准中所述的测定方法包括X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱。其中，X射线光电子能谱是指通过照射样品表面的X射线，使样品表面的原子发生光电子发射，从而得到样品表面的化学组成和结构信息；俄歇电子能谱是指通过照射样品表面的电子束，使样品表面的原子发生俄歇电子发射，从而得到样品表面的化学组成和结构信息；二次离子质谱是指通过照射样品表面的离子束，使样品表面的原子发生二次离子发射，从而得到样品表面的化学组成和结构信息。

本标准中所述的溅射速率是指在深度剖析过程中，样品表面的原子被离子束轰击后，从样品表面飞出的原子数目与离子束轰击时间的比值。本标准中所述的溅射速率测定方法包括直接测量法和反演法。其中，直接测量法是指通过测量样品表面的原子数目和离子束轰击时间，来计算溅射速率；反演法是指通过测量样品表面的化学组成和结构信息，来反演出溅射速率。

相关标准
GB/T 20123-2006 表面化学分析 二次离子质谱分析方法
GB/T 20124-2006 表面化学分析 X射线光电子能谱分析方法
GB/T 20125-2006 表面化学分析 俄歇电子能谱分析方法
GB/T 20126-2006 表面化学分析 深度剖析方法
GB/T 20127-2006 表面化学分析 溅射深度分析方法