GB/T 12823.4-2008
摄影 密度测量 第4部分:反射密度的几何条件
发布时间:2008-09-24 实施时间:2009-05-01


反射密度是指物体表面反射光线的强度与入射光线的强度之比,是衡量物体表面反射能力的重要指标。反射密度的测量方法和几何条件对于各种材料的质量控制和检验具有重要意义。

本标准规定了反射密度的测量方法和几何条件。其中,测量方法采用反射式密度计进行,几何条件包括光源、观察角度、测量区域等。具体要求如下:

1. 光源:使用标准光源D65,其光谱分布符合CIE标准光源D65的要求。

2. 观察角度:使用45度观察角度,即光线与垂直于样品表面的法线夹角为45度。

3. 测量区域:测量区域应为样品表面的平坦区域,避免凹凸不平或有明显瑕疵的区域。

4. 测量范围:本标准适用于反射密度在0.05至2.0之间的材料。

5. 测量精度:反射密度的测量精度应符合本标准规定的要求。

本标准的实施可以有效保证反射密度的测量精度和准确性,为各种材料的质量控制和检验提供了可靠的依据。

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