GB/T 4586-1994
半导体器件 分立器件 第8部分:场效应晶体管
发布时间:1994-12-30 实施时间:1995-08-01


场效应晶体管(Field Effect Transistor,FET)是一种半导体器件,具有高输入阻抗、低噪声、低功耗等优点,广泛应用于放大、开关、调制、振荡等电路中。GB/T 4586-1994《半导体器件 分立器件 第8部分:场效应晶体管》是我国对场效应晶体管进行分类、要求、试验方法、标记、包装、运输和贮存的标准。

该标准将场效应晶体管分为N沟道型(N-Channel)和P沟道型(P-Channel)两种类型。其中,N沟道型场效应晶体管的导电沟道为N型半导体,P沟道型场效应晶体管的导电沟道为P型半导体。标准规定了场效应晶体管的主要性能指标,包括最大漏极电流、最大漏极电压、漏极截止电压、静态工作点等。此外,标准还规定了场效应晶体管的试验方法,包括静态参数测量、动态参数测量、温度特性测量等。

标准要求场效应晶体管应在产品上标明型号、生产厂家、批号、日期等信息,并采用适当的包装方式进行包装和运输。在贮存过程中,场效应晶体管应存放在防潮、防尘、防静电的环境中,避免受到机械损伤和化学腐蚀。

本标准的实施有助于规范场效应晶体管的生产和使用,提高产品质量和可靠性,促进我国半导体器件产业的发展。

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