光掩模是半导体工艺中常用的一种工具，用于制作微电子器件的图形。光掩模对准标记是指在光掩模上用于对准光刻机的标记，其准确度直接影响到微电子器件的制作精度。因此，对光掩模对准标记的规范化要求十分重要。

本标准规定了光掩模对准标记的形状、尺寸、位置、材料、制作和使用要求。其中，对准标记的形状应为圆形或方形，直径或边长应为10mm，标记的位置应在光掩模的四个角上，距离光掩模边缘的距离应为5mm。对准标记的材料应为金属或氧化物，制作时应采用光刻或电子束曝光技术。

在使用光掩模时，应注意对准标记的位置和方向，以确保光刻机能够准确地对准光掩模。同时，应定期检查光掩模对准标记的磨损情况，如有磨损应及时更换。

相关标准
GB/T 16525-1996 光掩模制作规范
GB/T 16526-1996 光掩模存储规范
GB/T 16527-1996 光掩模使用规范
GB/T 16528-1996 光掩模检测规范
GB/T 16529-1996 光掩模维护规范