掩模曝光系统是半导体器件制造中的重要设备之一，其精密度和准确度对器件的性能和质量有着重要的影响。为了保证掩模曝光系统的精密度和准确度，需要对其进行测试和评估。GB/T 16879-1997就是为了规范掩模曝光系统的测试和评估而制定的标准。

该标准规定了掩模曝光系统的精密度和准确度的表示方法。其中，精密度表示掩模曝光系统在同一条件下进行多次测试所得到的结果的一致性，准确度表示掩模曝光系统所得到的结果与真实值之间的偏差。标准中还规定了精密度和准确度的计算方法和表示方式。

此外，该标准还规定了对掩模曝光系统进行测试的方法和要求。测试应该在标准规定的条件下进行，包括环境条件、测试设备和测试程序等。测试结果应该记录并进行分析，以评估掩模曝光系统的精密度和准确度是否符合要求。

GB/T 16879-1997的实施可以有效提高掩模曝光系统的精密度和准确度，保证半导体器件的性能和质量。同时，该标准也为掩模曝光系统的测试和评估提供了统一的标准，方便了不同厂家和用户之间的交流和比较。

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