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微机电系统（MEMS）技术是一种将微米级或纳米级的机械、电子、光学和生物学元件集成在一起的技术。MEMS技术的应用范围非常广泛，包括传感器、执行器、生物芯片、光学器件等。在MEMS器件的制造和应用过程中，需要对器件的尺寸进行精确测量，以保证器件的性能和可靠性。而基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法是一种非接触式、高精度、高分辨率的测量方法，已经成为MEMS器件尺寸测量的重要手段之一。

GB/T 34893-2017标准规定了基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法的术语和定义、测量原理、测量装置、测量程序、测量不确定度评定和测量结果表示等内容。其中，测量原理主要包括干涉仪的原理、干涉条纹的形成原理、相位测量原理等；测量装置主要包括干涉仪、光源、样品台、相机等；测量程序主要包括样品的准备、干涉仪的调试、测量数据的采集和处理等；测量不确定度评定主要包括误差来源的分析、不确定度的计算和评定等；测量结果表示主要包括测量值的表示、误差范围的表示等。

该标准适用于基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量，包括MEMS器件的尺寸测量、MEMS器件的表面形貌测量等。该标准的实施可以提高MEMS器件尺寸测量的精度和可靠性，促进MEMS技术的发展和应用。

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