GB/T 4937.21-2018
半导体器件 机械和气候试验方法 第21部分:可焊性
发布时间:2018-09-17 实施时间:2019-01-01


半导体器件是现代电子技术中不可或缺的组成部分,其可靠性和稳定性对于电子产品的性能和寿命有着至关重要的影响。而半导体器件的可焊性则是其在电路板上焊接时的重要性能指标之一。因此,对半导体器件的可焊性进行测试和评估是非常必要的。

GB/T 4937.21-2018 标准规定了半导体器件可焊性试验的方法,主要包括焊接试验和热冲击试验两种。其中,焊接试验是通过将半导体器件与电路板焊接在一起,然后进行拉力测试和剪切测试,以评估焊点的可靠性和强度。而热冲击试验则是通过将半导体器件暴露在高温和低温交替的环境中,以模拟实际使用条件下的热应力,从而评估焊点的耐热性和耐冷性。

具体来说,焊接试验包括以下步骤:

1. 准备测试样品:将半导体器件和电路板焊接在一起,形成焊点。

2. 进行拉力测试:将测试样品固定在测试机上,以一定的速度施加拉力,直到焊点断裂。根据断裂的位置和形态,评估焊点的可靠性。

3. 进行剪切测试:将测试样品固定在测试机上,以一定的速度施加剪切力,直到焊点断裂。根据断裂的位置和形态,评估焊点的可靠性。

热冲击试验包括以下步骤:

1. 准备测试样品:将半导体器件和电路板焊接在一起,形成焊点。

2. 将测试样品暴露在高温环境中,一般为150℃或175℃,持续时间为30分钟。

3. 将测试样品迅速转移到低温环境中,一般为-55℃或-65℃,持续时间为15分钟。

4. 重复以上步骤,直到完成一定的循环次数,一般为100次或500次。

5. 检查焊点的外观和性能,评估其耐热性和耐冷性。

需要注意的是,本标准规定的测试条件和方法仅适用于一般情况下的半导体器件,对于特殊类型的半导体器件,如高功率器件、高频器件等,需要根据实际情况进行相应的修改和补充。

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