真空镀膜设备是一种用于在材料表面形成薄膜的设备，广泛应用于电子、光学、机械、化工等领域。GB/T 11164-2011 真空镀膜设备通用技术条件是我国对真空镀膜设备的技术要求的规范性文件，适用于各种真空镀膜设备的设计、制造、安装、调试和使用。

本标准首先对真空镀膜设备的术语和定义进行了说明，包括真空度、镀膜材料、镀膜工艺等。然后对真空镀膜设备进行了分类，分为离子镀膜设备、磁控溅射镀膜设备、电弧离子镀膜设备、热阴极离子镀膜设备、电子束物理气相沉积设备等五类。

接着，本标准对真空镀膜设备的基本参数进行了规定，包括真空度、泵速、泵量、泵的种类、镀膜材料、镀膜工艺等。其中，真空度是真空镀膜设备的重要参数之一，本标准规定了不同类型的真空镀膜设备的真空度要求。

在技术要求方面，本标准对真空镀膜设备的结构、材料、加工精度、电气控制、安全保护等方面进行了详细的规定。例如，对于真空镀膜设备的结构，本标准规定了设备应具有良好的密封性、易于维护和清洁、能够满足不同类型的镀膜工艺等要求。

在试验方法方面，本标准规定了真空镀膜设备的出厂试验和使用前的检验方法，包括真空度测试、泄漏测试、电气性能测试等。同时，本标准还规定了真空镀膜设备的检验规则、标志、包装、运输和贮存等方面的要求。

相关标准
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