X光电子能谱是一种常用的表征材料表面化学成分和化学状态的分析技术。在X光电子能谱分析中，荷电控制和荷电基准是非常重要的概念。荷电控制是指在X光电子能谱分析中，通过施加电场或电位差，使得样品表面的电荷状态保持稳定，从而保证分析结果的准确性和可重复性。荷电基准是指在X光电子能谱分析中，通过选择适当的基准能级，将分析结果的能量刻度与该基准能级对齐，从而保证分析结果的准确性和可比性。

GB/T 31472-2015规定了荷电控制和荷电基准的定义、分类、测量方法、校准方法、不确定度评定等内容。其中，荷电控制分为静电荷控制和电子洗涤荷控制两种。静电荷控制是指通过施加电场或电位差，使得样品表面的电荷状态保持稳定。电子洗涤荷控制是指通过向样品表面注入电子，使得样品表面的电荷状态保持稳定。荷电基准分为内部基准和外部基准两种。内部基准是指通过选择样品中已知的能级作为基准能级，将分析结果的能量刻度与该基准能级对齐。外部基准是指通过选择已知的标准样品中的能级作为基准能级，将分析结果的能量刻度与该基准能级对齐。

GB/T 31472-2015还规定了荷电控制和荷电基准的测量方法和校准方法。荷电控制的测量方法包括电位差法、电场法和电子洗涤法。荷电基准的测量方法包括内部基准法和外部基准法。荷电控制和荷电基准的校准方法包括内部校准法和外部校准法。此外，GB/T 31472-2015还规定了荷电控制和荷电基准的不确定度评定方法，以保证分析结果的可靠性和准确性。

相关标准
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