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BS ISO 17109 AMD1. Surface chemical analysis. Depth profiling. Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and…
发布时间：2021-04-28 实施时间：


BS ISO 17109 AMD1标准主要介绍了在表面化学分析中，如何使用X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱剖析等技术进行深度剖析，并通过测定溅射速率来确定样品的深度分布信息。该标准适用于单个和多层样品的分析，可以用于分析材料的表面和界面化学成分、结构和性质等方面的信息。

在深度剖析中，样品表面会受到离子轰击，从而产生溅射现象。溅射速率是指单位时间内离子轰击样品表面所产生的溅射深度。通过测定溅射速率，可以确定样品的深度分布信息。该标准介绍了如何使用X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱剖析等技术进行深度剖析，并通过测定溅射速率来确定样品的深度分布信息。

该标准还介绍了如何选择合适的离子源和分析条件，以及如何进行数据处理和分析。在进行深度剖析时，需要注意样品的表面和界面的化学成分、结构和性质等方面的信息，以便得到准确的分析结果。

总之，BS ISO 17109 AMD1标准是一项关于表面化学分析的标准，主要介绍了在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱剖析中，用于单个和多层样品的溅射速率测定方法。该标准适用于需要进行深度剖析的样品，可以用于分析材料的表面和界面化学成分、结构和性质等方面的信息。

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